產品分類

CMP 拋光液 CMP60～　　　　　　　　CMP160等

說明

擁有奈米級研磨粒子與特殊基底配製而成，獨特複合即微小顆粒，低磨粒（Colloidal Silica）含量懸浮度良好，純度高，粒度細，無須特殊清潔製程

特點

特殊多晶氧化鋁結構，能有效控制拋光溫度
高移除率，表面粗度優，達到極佳完工表面
容易清洗，無結晶殘留
可重複循環使用，減少加工製程及成本

應用範圍

可適用於多種不同材料，如果您需要更多詳細資訊，請與我們聯繫

應用尺寸

N/A

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