制程设备

GLS-200G

降低成本的晶圆切割和减薄技术通过每个过程之间的全自动传输:雷射加工、晶圆分离、晶碇分离后的表面粗、细研磨,加工时间大大缩短,不再需要研磨(Lapping)工艺,产量大幅提升 50%。

GSPP-810P

晶圆单面CMP抛光设备,具备业界独有的工作盘微调功能,以确保良好完工质量

GSP-810P

四轴单面抛光设备,适合多片式与大尺寸晶圆加工;独立控制各轴加工参数,大幅提升加工效率与完工质量优良性

GSP-610PR

针对大尺寸蓝宝石(Sapphire)芯片表面薄化加工,提供全自动双轴抛光加工设备,以load on load的方式进行全自动的抛光制程,速度最快、产量最多,并且同时适用多种制程的抛光加工设备.操作简单,全程由PLC制程 控制,精度高、速度快、耗材成本低,人事成本亦可大幅下降

GSP-610P

应用于芯片单面抛光设备,具备自动化盘面修整系统,可依制程需求,应对不同尺寸及材料加工

GDP-9H

采用特殊转轴设计,效率高,产出快,适用于双面研磨及双面抛光产品,设备规格客制化;目前提供24"、28"、32"、36"等规格

GVG-350PCD

具备绝佳刚性与独特结构,能进一步提高研磨稳定性与切削速率,特别是用于大尺寸晶圆薄化制程;搭配人性化操作接口,使操作更为便利

GHG-260PCD

专属晶圆减薄加工研磨设备,具备高精密度与快速减薄能力.晶圆尺寸适用性广泛,适用2吋及4吋制程,并可依照制程需求变化研磨参数,提升制程稳定度与产品质量

GMS-8100

针对 GaAs/SiC/Si/Sapphire晶圆双片贴合制程,研发制造出全自动贴合设备,为目前业界中,有Robot传送系统,贴合速度最快,贴合质量稳定的晶圆贴合设备。
操作非常简单,贴合后厚度均匀,精度高,速度快,耗材成本低,人事成本大幅下降。