产品介绍

GLS-200G

降低成本的晶圆切割和减薄技术通过每个过程之间的全自动传输:雷射加工、晶圆分离、晶碇分离后的表面粗、细研磨,加工时间大大缩短,不再需要研磨(Lapping)工艺,产量大幅提升 50%。

JIS240#~JIS6000#

提供磨料、磨具、研磨剂及制造其他的硼化物,广泛应用于光电、机械、电子、
仪表、化工、冶金、国防、航空科技、核工业等

JIS240#-JIS6000#

提供水晶、钢铁的抛光;陶瓷、特殊钢的精密抛光;固结和耐附磨具、切割、自由研磨抛光;
且能制造高级耐火材料,工程陶瓷、加热组件和热能组件等

GTC-SWC-2500、GTC-SWC-6000

用于钻石线切割的切割液,能有效延长钻石线寿命,并使钻石线同时加工多个晶棒,同时保持性能

CMP60、CMP70、CMP80、CMP90、CMP130、CMP160 ...等

拥有奈米级研磨粒子与特殊基底配制而成,独特复合即微小颗粒,低磨粒(Colloidal Silica)含量悬浮度良好,纯度高,粒度细,无须特殊清洁制程

可针对多样化的抛光应用,并提供多样性的表面选择(如平面、格状...等)

针对多样化的抛光应用提供多样性的表面选择(如平面、格状等);背面使用压力感应背胶(PSA),可作用于70℃以下,PH适用1~13之间,在电子应用方面适用环形或单轴抛光,搭配CMP抛光液,可使加工件表面更能符合市场高标准需求

CB170、CB240、CB260 ; 可客制化

承载工件之载具,原材料为高纯度之氧化铝烧结成片状
不易破裂、平整度/平面度极佳、表面粗糙度可依客户要求而制作

PST-PCD60° ; 可客制化

采用精心挑选出的钻石制成,用于修整抛光盘表面修平及车沟用

依客户需求,提供客户粒径规格

广泛应用于半导体材料、蓝宝石、钻石、陶瓷等工件表面处理