产品分类:雷射设备 雷射加工晶锭分片机 GLS-200G 降低成本的晶圆切割和减薄技术通过每个过程之间的全自动传输:雷射加工、晶圆分离、晶碇分离后的表面粗、细研磨,加工时间大大缩短,不再需要研磨(Lapping)工艺,产量大幅提升 50%。
产品分类:CMP耗材 CMP 抛光液 CMP60、CMP160等 拥有奈米级研磨粒子与特殊基底配制而成,独特复合即微小颗粒,低磨粒(Colloidal Silica)含量悬浮度良好,纯度高,粒度细,无须特殊清洁制程
产品分类:CMP耗材 CMP 抛光垫 提供多样性的表面选择 针对多样化的抛光应用提供多样性的表面选择(如平面、格状等);背面使用压力感应背胶(PSA),可作用于70℃以下,PH适用1~13之间,在电子应用方面适用环形或单轴抛光,搭配CMP抛光液,可使加工件表面更能符合市场高标准需求