Mavlipa G3 是專為解決半導體化學機械平坦化 (CMP) 研磨液計量挑戰而設計的「第三代」解決方案。它是目前市場上唯一能夠在無需稀釋且即時的狀態下，精準測量各類研磨液（包含高濃度不透明溶液，如氧化鈰或矽研磨液）之粒徑分佈 (PSD) 與大顆粒計數 (LPC) 的儀器。其緊湊的設計與專利光學技術，使其成為維持半導體良率的關鍵監控設備