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Mavlipa G3 是專為解決半導體化學機械平坦化 (CMP) 研磨液計量挑戰而設計的「第三代」解決方案。它是目前市場上唯一能夠在無需稀釋且即時的狀態下，精準測量各類研磨液（包含高濃度不透明溶液，如氧化鈰或矽研磨液）之粒徑分佈 (PSD) 與大顆粒計數 (LPC) 的儀器。其緊湊的設計與專利光學技術，使其成為維持半導體良率的關鍵監控設備
• 無需稀釋原液量測：直接分析研磨液自然狀態，避免稀釋引發的顆粒凝聚誤差，且樣品可流回系統節省原料
• 多感測器專利技術 (MSOPS)：濃度測量範圍橫跨 9 個數量級，提供領先業界的量測寬度與重複性
• 背景散射抑制技術：針對不透明溶液設計，不受光學濁度限制，可精準捕捉背景中的細微顆粒變化
• 專利高/低流量自動切換：可自動優化測量參數，同時兼顧「主峰模式 (Main mode)」與「大顆粒 (LPC)」的量測需求
• 先進 Gen3 檢測演算法：提供即時數據串流，無需額外的數學建模或繁瑣的數據校正
• 高相容性材質：接液部件採用 Teflon、Sapphire 與 Kalrez，確保化學穩定性並防止汙染
• 配方研發 (R&D)：快速篩選新化學配方對粒徑分佈的影響
• 進料品質檢驗 (IQA)：在研磨液進入日用槽前，驗證其在運輸或儲存後的健康狀況
• 在線統計製程監控 (In-line SPC)：24/7 全天候監控供應系統，超越傳統的手動批次抽樣
• 循環過濾系統監控：連續監測循環迴路，即時發現過濾器失效或系統異常
• 終端點對點檢測 (POU)：在進入拋光機前的最後一關攔截異常大顆粒，避免晶圓刮傷
•檢測粒徑範圍：100 nm (最低可達 80 nm) 至 5 μm 以上
•最大測量濃度：可達 3 x 10⁹ particles/ml