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半導體設備陶瓷電漿溶射粉末

氧化釔粉

電漿溶射氧化釔粉末
．Y₂O₃ / Y₂O₃ – ZrO₂
優異的高溫安全性和等離子體腐蝕性能。
CVD用於半導體、液晶顯示器設備製程部件、通過溶射塗覆表層來延長使用工作壽命。
．YAG
它是無定形的，優於結晶材料，具有優越機械和化學性能。
適用於半導體、液晶顯示設備製程部件和絕緣溶射層。
．Al₂O₃ (壓碎 / 碎裂)
機械強度、耐熱性、耐磨性、耐腐蝕性
優異的絕緣性能於電氣、電子、光學、機械、化學等各個領域。
廣泛用於半導體及液晶顯示器製程陶瓷材料。

德國製 SiC碳化矽晶錠全自動滾圓平邊研磨系統

SiC OD 晶錠研磨系統Q2

Logomatic Gmb H 設計與製造硬脆材料晶錠滾圓研磨系統

eSPC 空調系統水垢擷取設備

SPC系列

嶄新的去除水垢技術。省水、節能、免化學藥劑的完美解決方案，並符合碳中和2050政策和ESG 管理。

3D表面輪廓量測設備

GSS Plus

．採用非接觸式量測技術，不破壞物體表面
．搭配高精度運動控制平台，客戶可任意採用點/線/面量測法進行產品3D數據分析
．量測點距(Resolution)及數量可程式控制，而不受3D 面掃之硬體限制
．適用產品性廣，除吸光材質以外，所有產品皆適用

MPCVD

WEC-MP6000d

WEC-MP6000d是最先進的CVD系統能生產高質量的CVD鑽石供各產業使用
MPCVD （Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition）微波等離子化學氣相沉澱法是指高純度氫氣在強大的微波作用下產生高能量的等離子火球，高純度甲烷氣體在等離子作用下變成游離的碳原子和氫原子，這些游離的碳原子在強大能量的等離子作用下會逐步按立體排列的方式沉積到底部的鑽石種子上，使鑽石種子逐步長厚形成與「天然鑽石結構&成分」完全一樣的CVD人工鑽石。