CMP拋光墊 可針對多樣化的拋光應用,並提供多樣性的表面選擇

说明

针对多样化的抛光应用提供多样性的表面选择(如平面、格状等);背面使用压力感应背胶(PSA),可作用于70℃以下,PH适用1~13之间,在电子应用方面适用环形或单轴抛光,搭配CMP抛光液,可使加工件表面更能符合市场高标准需求

特点

表层与底层特殊复合材结构
抛光移除率高且寿命长
多样化的垫片材质,可满足各类需求

应用范围

可适用于多种不同材料,如果您需要更多详细信息,请与我们联系

适用尺寸

N/A