Mavlipa G3 是專为解决半导体化学机械平坦化 (CMP) 抛光液计量挑战而设计的“第三代”解决方案。它是目前市场上唯一能够在无需稀释且实时的状态下，精准测量各类浆料（包含高浓度不透明溶液，如氧化铈或硅溶胶抛光液）之粒径分布 (PSD) 与大颗粒计数 (LPC) 的仪器。其紧凑的设计与专利光学技术，使其成为维持半导体良率的关键监控设备