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Mavlipa G3 是專为解决半导体化学机械平坦化 (CMP) 抛光液计量挑战而设计的“第三代”解决方案。它是目前市场上唯一能够在无需稀释且实时的状态下，精准测量各类浆料（包含高浓度不透明溶液，如氧化铈或硅溶胶抛光液）之粒径分布 (PSD) 与大颗粒计数 (LPC) 的仪器。其紧凑的设计与专利光学技术，使其成为维持半导体良率的关键监控设备
•无需稀释原液量测：直接分析抛光液自然状态，避免稀释引发的颗粒凝聚误差，且样品可流回系统以节省高昂原料
•多传感器专利技术 (MSOPS)：浓度测量范围横跨 9 个数量级，提供领先业界的量测宽度与重复性
•背景散射抑制技术：针对不透明溶液设计，不受光学浊度限制，可精准捕捉背景中的细微颗粒变化
•专利高/低流量自动切换：可自动优化测量参数，同时兼顾“主峰模式 (Main mode)”与“大颗粒 (LPC)”的量测需求
•先进 Gen3 检测算法：提供实时数据流，无需额外的数学建模或繁琐的数据校正
•高兼容性材质：接液部件采用 Teflon、Sapphire 与 Kalrez，确保化学稳定性并防止金属离子污染
• 配方研发 (R&D)：快速筛选新化学配方对粒径分布的影响
• 进料品质检验 (IQA)：在浆料进入日用槽前，验证其在运输或储存后的健康状况
• 在线统计过程控制 (In-line SPC)：24/7 全天候监控供应系统，超越传统的手动批次抽样
• 循环过滤系统监控：连续监测循环回路，实时发现过滤器失效或系统异常
• 终端点对点检测 (POU)：在进入抛光机前的最后一关拦截异常大颗粒，避免晶圆刮伤
•检测粒径范围：100 nm (最低可达 80 nm) 至 5 μm 以上
•最大测量浓度：可达 3 x 10⁹ particles/ml