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半導體設備陶瓷電漿溶射粉末

氧化釔粉

电浆溶射氧化钇粉末
．Y₂O₃ / Y₂O₃ – ZrO₂
优异的高温安全性和等离子体腐蚀性能。
CVD用于半导体、液晶显示器设备制程部件、通过溶射涂覆表层来延长使用工作寿命。
．YAG
它是无定形的，优于结晶材料，具有优越机械和化学性能。
适用于半导体、液晶显示设备制程部件和绝缘溶射层。
．Al₂O₃ (压碎 / 碎裂)
机械强度、耐热性、耐磨性、耐腐蚀性
优异的绝缘性能于电气、电子、光学、机械、化学等各个领域。
广泛用于半导体及液晶显示器制程陶瓷材料。

德國製 SiC碳化矽晶錠全自動滾圓平邊研磨系統

SiC OD 晶锭研磨系统Q2

logomatic Gmb H 设计与制造硬脆材料晶锭滚圆研磨系统

eSPC 空调系统水垢撷取设备

SPC系列

崭新的去除水垢技术。省水、节能、免化学药剂的完美解决方案，并符合碳中和2050政策和ESG 管理。

3D表面轮廓量测设备

GSS Plus

．采用非接触式量测技术，不破坏物体表面
．搭配高精度运动控制平台，客户可任意采用点/线/面量测法进行产品3D数据分析
．量测点距(Resolution)及数量可程控，而不受3D 面扫之硬件限制
．适用产品性广，除吸光材质以外，所有产品皆适用

MPCVD

WEC-MP6000d

WEC-MP6000d是最先进的CVD系统能生产高质量的CVD钻石供各产业使用
MPCVD （Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition）微波等离子化学气相沉淀法是指高纯度氢气在强大的微波作用下产生高能量的等离子火球，高纯度甲烷气体在等离子作用下变成游离的碳原子和氢原子，这些游离的碳原子在强大能量的等离子作用下会逐步按立体排列的方式沉积到底部的钻石种子上，使钻石种子逐步长厚形成与「天然钻石结构&成分」完全一样的CVD人工钻石。